钼溅射靶材
首页 > 产品中心 > > 溅射靶材 > 钼溅射靶材
钼制溅射靶
钼制溅射靶
钼制溅射靶
钼制溅射靶
钼制溅射靶
钼制溅射靶
钼制溅射靶
钼制溅射靶
钼制溅射靶
钼制溅射靶
钼制溅射靶
钼制溅射靶
钼制溅射靶
钼制溅射靶
钼制溅射靶
钼制溅射靶
钼制溅射靶
钼制溅射靶
钼制溅射靶
钼制溅射靶
钼制溅射靶
钼制溅射靶
钼制溅射靶
钼制溅射靶
钼制溅射靶
钼制溅射靶
钼制溅射靶
钼制溅射靶
钼溅射靶材

材料:

形状:

靶材

纯度:

99.95%

密度:

10.2g/cm³

颜色:

银色

标准:

ASTM B386标准

尺寸:

可定制

表面:

光滑

高亮度:

99.95%钼溅射靶材

钼溅射靶10.2g/cm³

钼板10.2g/cm³

钼溅射靶材描述

在电子工业中,钼溅射靶材主要用于平板显示器、薄膜太阳能电池的电极和布线材料以及半导体的阻挡层材料。这些是基于钼的高熔点、高导电性、低比阻抗、良好的耐腐蚀性和良好的环境性能。

 

参数

制造范围(钼旋转溅射靶)

外径(mm)

内径(mm)

长度(mm)

定制

Φ140-180mm

Φ125-Φ135mm

100-3300

制造范围(钼平面溅射靶)

矩形

长度(mm)

宽度(mm)

厚度(mm)

定制

10 - 3000

10 - 800

1.0 - 50.8

圆形

直径(mm)

 

厚度(mm)

10 - 1000

 

1.0 - 100

规范

组成

钼(Mo1,TZM)

纯度

    ≥99.95%

密度

10.2g/cm³

晶粒度

≤100µm2或根据要求

粗糙度

Ra≤0.4μm

平面度公差

<4μm

 

备注:所有规格均可根据客户要求定制。

 

原子序数 42
CAS编号 7439-98-7
原子质量 95.94[g/mol]
熔点 2620摄氏度
沸点 4639摄氏度
20°C时的密度 10.22[g/cm³]
晶体结构 体心立方
20°C下的线性热膨胀系数 5.2 × 10-6 [m/(mK)]
20°C时的热导率 142[W/(mK)]
20°C时的比热 0.25[J/(gK)]
20°C时的电导率 17.9 × 106 [S/m]
20°C时的比电阻 0.056[(Ωmm2)/m]

质量与检验


应用:

太阳能电池、平板显示器、半导体工业、微电子、汽车灯具和装饰涂料,

镀膜玻璃行业(包括建筑玻璃、汽车玻璃、光学玻璃和其他薄膜)等。

在线留言
相关产品
给我们留言
联系我们

邮箱:sales@hypersolidmetal.com

电话:13683798678

地址:中国洛阳市涧西区蓬莱路2号洛阳国家大学科技园

扫码联系 扫码联系
© 洛阳弘固金属科技有限公司 豫ICP备2024043945号-1 技术支持:尚贤科技 网站XML

首页

电话

邮箱

留言